图
图层的名称将补充您要添加的图层的名称。
Abbv是层次名称的缩写。
该数字是系统分配给层次结构的内部数字。系统保留一个介于128和256之间的数字作为默认层次结构号，并创建一个新级别，将1到127留给开发人员。
目的是在聚合级别上的功能。在工程图级别，通常选择一个工程图。
优先级是LSW中层次结构的排名位置。
其余选项通常保留其默认值。
右边是图层显示属性。
您可以在这些级别上直接应用一些显示属性。
您还可以通过单击“编辑资源”来编辑显示属性。
如图6所示（该窗口也可以由LSW调用），编辑过程非常简单，读者可以自行报告而不重复。
完成上一个任务将为您提供所需的级别。
然后，您可以开始绘制设计。
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图纸设计
1.绘制pmos设计（创建一个名为pmos的新单元格）
1）
绘制活动区域
在LSW中，单击活动（dg）。请注意，活动文本显示在LSW的顶部，表明活动图层是当前选定的层。
接下来，在图标菜单中单击方形图标以在窗口编辑窗口中绘制宽度3。
6u，6u长矩形。
在这里，您需要使用校准规则。
单击其他/规则以获取它。
清除规则，然后单击“杂项/ clearruler”。
如果在绘制时出错，请单击要删除的零件，然后单击Deleteicon。
2）
疼痛痕迹
在LSW中，单击poly（dg）绘制一个矩形。
与活动区域的位置关系如下吗？
图6
DisplayResourceeditor3。您想绘制整个pmos吗？
为了表明您正在绘制pmos管，您需要基于前一个覆盖整个活动区域0的图案添加pselect层。
6u。
接下来，绘制覆盖活动区域1的整个试管。
8u。
如下图所示：
